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日本進(jìn)口techvision全自動光掩膜清洗裝置

日本進(jìn)口techvision全自動光掩膜清洗裝置 TWC-200A

全自動光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘?jiān)膖o盒的全自動光掩膜清洗裝置。

  • 產(chǎn)品型號：TWC-200A
  • 廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間：2024-06-21
  • 訪  問  量：147
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詳細(xì)介紹

日本進(jìn)口techvision全自動光掩膜清洗裝置 TWC-200A 特點(diǎn)介紹


全自動光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘?jiān)膖o盒的全自動光掩膜清洗裝置。

干燥采用熱純水干燥，而不是傳統(tǒng)的氣刀干燥，并采用免調(diào)節(jié)設(shè)計(jì)，省去了水飛濺調(diào)節(jié)的麻煩。  熱純水干燥

對應(yīng)的面罩尺寸，最多7英寸。專用盒最多可裝20張。


日本進(jìn)口techvision全自動光掩膜清洗裝置 TWC-200A 規(guī)格參數(shù)


?輕松去除附著在掩模上的抗蝕劑

?輕松移除蒙版上的粒子

?清洗液開發(fā)對環(huán)境友好的溫和的水溶性藥液

?從熱硫酸和硫酸過水等危險(xiǎn)中解脫出來

?不需要昂貴的去除劑和顯影液

用途：平板顯示器，MEMS器件，精細(xì)圖案PCB/FPC/TAB，化合物半導(dǎo)體，薄膜電子元件等。

TWC系列可同時(shí)去除附著在掩模上的抗蝕劑和顆粒。使用專用藥液去除抗蝕劑和TW系列培養(yǎng)的顆粒去除技術(shù)，有助于提高口罩的清潔度。


全自動光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘?jiān)膖o盒的全自動光掩膜清洗裝置。

干燥采用熱純水干燥，而不是傳統(tǒng)的氣刀干燥，并采用免調(diào)節(jié)設(shè)計(jì)，省去了水飛濺調(diào)節(jié)的麻煩。  熱純水干燥

對應(yīng)的面罩尺寸，最多7英寸。專用盒最多可裝20張。



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