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凱爾克kelk化學(xué)溶液恒溫循環(huán)器控制器半導(dǎo)體 RX-610-R濕法工藝的直接循環(huán)化學(xué)恒溫裝置,具有在線冷卻和加熱裝置,不會造成金屬離子洗脫和污染。
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凱爾克kelk化學(xué)溶液恒溫循環(huán)器控制器半導(dǎo)體 RX-610-R 特點介紹
濕法工藝的直接循環(huán)化學(xué)恒溫裝置,具有在線冷卻和加熱裝置,不會造成金屬離子洗脫和污染。
KELK的化學(xué)循環(huán)器能夠高精度地控制RCA清洗和濕法蝕刻中使用的藥液溫度,作為半導(dǎo)體制造濕法工藝中的設(shè)備,得到了廣泛的喜愛。
為了響應(yīng)近年來使用藥液的多樣化、高兆位化帶來的清潔度提高的要求,進一步進行了更新。(注)作為高溫藥液用,建議使用CS加熱器。
冷卻加熱部的傳熱接液部件使用高純度的玻璃狀碳,無需擔(dān)心溶出金屬離子造成的污染,也不需要表面保護膜,也不會因剝離而降低能力。
由于橡膠O型圈不直接接觸液體的密封結(jié)構(gòu),因此無需選擇酸性液體、堿性液體等每種藥液的密封材質(zhì)。
由于采用電子冷熱方式,因此適用于室溫附近的溫度控制且精度高。
本裝置符合國際保護標(biāo)準(zhǔn)IP31.
裝置內(nèi)置檢測藥液和冷卻水泄漏的漏液傳感器、檢測異常溫度的溫度開關(guān),因此您可以放心使用。
凱爾克kelk化學(xué)溶液恒溫循環(huán)器控制器半導(dǎo)體 RX-610-R 特點介紹
半導(dǎo)體制造濕法工藝中使用的藥液的溫度管理
●RCA清洗液
●蝕刻液
●光刻工序顯影液
其他領(lǐng)域中的各種藥液的溫度管理
●不能使用電鍍液、各種表面處理液、其他(注)含有臭氧的藥液。
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